一般的陶瓷材料在烧结出来的时候表面是会有毛刺,为了达到使用的要求,往往要通过抛光来是表面更加光亮平滑,下面科众陶瓷厂给大家介绍氧化锆陶瓷抛光的方法。
氧化锆陶瓷抛光效果
从材料的去除机理上看,氧化锆陶瓷抛光是介于氧化锆陶瓷结构件脆性破坏与弹性去除之间的一种加工方法,而抛光加工基本上是在材料的弹性去除范围内进行。
研磨、抛光加工由于氧化锆陶瓷材料去除量小,加工效率低;去除率与被加氧化锆陶瓷工材料的韧性有较大关系,氧化锆陶瓷韧性越高,氧化锆陶瓷加工效率越低,一般只用于氧化锆陶瓷抛光超精加工的最终工序。
氧化锆陶瓷抛光效果
研磨、抛光加工的氧化锆陶瓷材料一般来说使用平面抛光机在进行氧化锆陶瓷抛光都是采用铁盘开粗,然后用白布进行抛光,但是这种效率非常慢,往往白布抛光要经过30-40分钟后才能达到应有的镜面。
光学玻璃、蓝宝石等光学材料,硅片、GaAs基片等半导体材料,氧化锆陶瓷、氧化铝陶瓷等陶瓷材料的镜面加工大多采用研磨、抛光加工方法。
研磨、抛光加工是采用游离磨料对被加工表面材料产生微细去除作用以达到加工效果的一种超精加工方法。
在陶瓷材料的超精加工与光整加工中,特别是在用于陶瓷轴承的陶瓷球的精密加工中,研磨、抛光加工有着不可替代的位置。
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本文“氧化锆陶瓷抛光的方法(多图)”由科众陶瓷编辑整理,修订时间:2022-12-28 11:54:34
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