氧化锆陶瓷等离子烧结方法主要通过温度、压力和时间几个参数控制烧结过程。
但氧化锆陶瓷在烧结升温过程中,加热升温是依靠发热体对样本的对流、辐射加热,故其升温速率一般较慢(小于50℃/min)。
由于氧化锆陶瓷快速升温对烧结和显微结构的发展有利,人们一直试图获得极高的升温速率。
而高速升温的实现用常规的电加热法是无法实现的。
等离子体加热可获得电加热法所无法达到的极高的升温速率。
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本文“氧化锆陶瓷等离子烧结方法”由科众陶瓷编辑整理,修订时间:2015-12-05 08:11:56
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